第一千一百一十三章 都需要努力（第1 / 3页）

这么多的原材料，想要及时加工成为cpu，可就是需要大量的最新式光刻机才能够办到的，这一台最新式光刻机，差不多就要花掉三千万美元左右，而以intel的情形，至少也要二、三十台才能够满足生产需求，其投资之巨大，显然不言而喻。

其实在整条光刻工艺线中成本最高并不是光刻机，而是光刻胶，那玩意儿现在全是依靠进口，成本差不多一滴一块钱，几批产品走下来钱就让人感觉吃不消了。

总体而言，光刻机项目之所以重大高端，是因为它是生产电子芯片的最关键设备，用于制造电子元器件上的集成电路图案。

同时，中国是全球集成电路的最大消耗国，据统计所用集成电路占全球的四分之一以上，但是国产集成电路国内市场自给率却少于十分之一，因此，光刻机也是国家特别注意的重点制造装备，只是目前尚无国产实现。

范氏投资集团之前没有在这方面留意，全部依靠进口尼康的光刻机，价格确实贵的离谱儿，不过依靠范氏目前的技术条件，似乎还是无法实现光刻机自给。

“煤老板这种存在，确实是一种很强大很逆天的存在。”范无病摸着脑袋回答道。

提到了这个问题，范无病也觉得很无趣。

虽然说范无病自己也是大搞矿产资源的，但是对于国内的一些事情，还是看不惯，毕竟他主要是在海外折腾别人，而煤老板们则是勾结了地方官员们在国内折腾自己人，这两者是有本质上的区别的。

事实上现在范氏投资集团的芯片部门，也有自己的瓶颈，就是光刻技术上的限制。

设计能力虽然达到了，但是要实现出来成为产品，还有很长的一段儿路要走。

光刻机是众多现代技术高度集成的产物，这些技术是物理、光学、材料科学、精密机械、精密控制和工程学等等。在过去的二十几年中，光刻机作为器件制造业的重要工具，经历了多次革命。

这些变革是伴随着微处理器和内存特种尺寸的不断缩减发生的，二十多年前，曰本尼康生产了第一台光刻机，到了前几年，微处理器的特征尺寸的缩减呈现了加速和偏离摩尔定律的迹象，这更使得光刻机的改进增速。

新型半导体工艺的实现，并不是intel一家就能做到的，背后默默贡献半导体设备的功臣却往往不为人所知，光刻机制造商显然就是其中一个非常重要的环节。

其实在更早的世代，asml和尼康都曾经成为intel的光刻设备供应商，但在intel首次应用沉浸式光刻技术的时候，就只有尼康一家提供相关设备。

就以当前的能力来估计，到今年底的时候intel每月能生产大约五千块最新技术晶圆，如果四座晶圆厂全力开工，每座每月可生产大约四万五千块最新技术晶圆，一个月合计十八万块左右。